EDI úpravna vody pro polysilikon

Úpravna vody EDI pro polysilikon je obvykle součástí systému vysoké{0}}čisté/ultračisté vody (HPW/UPW) používaného k dodávání vody s velmi nízkým-iontem pro výrobu polysilikonu a souvisejících služeb. V závodech na výrobu polysilikonu se EDI nejčastěji používá po RO k kontinuálnímu leštění vody na velmi nízkou vodivost, poté se přidávají další leštící kroky v závislosti na tom, kde se voda používá (proces vs. veřejné služby).

Běžná použití vody zahrnují:

• Chemické složení-/ředění(např. kyseliny/zásady, procesní chemikálie)
• Čištění / oplachovánívybavení a některých dílů
• Pračky(některé potřebují vysokou čistotu, některé mohou používat RO-permeát)
• Napájecí / parní systémy kotlů(často RO-EDI nebo RO-EDI + smíšená postel)
• Chladicí smyčky(často RO nebo změkčená/filtrovaná voda, ne vždy UPW)

Polysilicon zařízení obvykle navrhují dvě kvalitní hlavičky:

• UPW/HPWpro kritický proces a oplach
• RO-permeát / změkčenýpro nástroje jako chlazení make-upu, mytí atd.

Běžná robustní konfigurace vypadá takto:

1) Předúprava (ochrana membrán, stabilizace krmiva)

Surová voda → Multimediální/pískový filtr → Aktivní uhlí (nebo dechlorace) → Dávkování změkčovadla / antiscalantu → Kartušové filtry (5 µm)

2) Odsolování + kontinuální deionizace

→ RO (často dvojitý-průchod) → Odplyňovač (odstranění CO₂, volitelné, ale běžné) → EDI

3) Finální leštění (závisí na požadované čistotě)

Pro vysoce{0}}čistotu procesní vody rostliny často přidávají:

→ UV (185/254 nm) → Mixed Bed Polisher (finální „trim“) → UF / finální membránové filtry → Zásobní nádrž → Recirkulační smyčka → Místo použití

• Trvale vysoká čistota (žádný cyklus vyčerpání pryskyřice)
• Žádná regenerace kyselinou/žíravinou (bezpečnější, nižší manipulace s chemikáliemi)
• Stabilní vodivost/odpor
• Nižší regenerace odpadních vod ve srovnání s tradiční iontovou výměnou

Přesné limity závisí na vašem procesu a specifikacích zákazníka, ale typické cíle jsou:

Pro RO + EDI produkt (před konečným leštěním)

• Vodivost:~0,05–0,2 µS/cm
• Odpor:~5–18 MΩ·cm (závisí na designu-)

Pro "UPW/HPW" po leštění (v případě potřeby)

• Odpor:často blízko18,2 MΩ·cm
• Křemík / bór:velmi nízká (v případě potřeby-úroveň ppb)
• TOC:velmi nízká (v případě potřeby-úroveň ppb)
• Částice / bakterie:velmi nízké (s UF + finálními filtry + smyčkou)

(Pokud používáte hlavně napájení kotle a obecné ředění procesu, možná nebudete potřebovat celou leštící linku UPW.)

1. Kontrola oxidu křemičitého a boru

Vysoký obsah oxidu křemičitého může omezit regeneraci RO a znečištění membrán.

Bór se hůře odstraňuje; double{0}}pass RO a správná strategie pH pomáhají.

2. Odplynění CO₂ zlepšuje EDI

Vysoký obsah rozpuštěného CO₂ zvyšuje zatížení EDI a snižuje stabilitu odporu. Běžný je membránový odplyňovač.

3. Výběr materiálu

Po EDI používejte vysoce{0}}čisté materiály (často SS316L EP, PVDF/PFA/PP v závislosti na specifikaci). Zabraňte vyluhování a korozi.

4. Na designu smyčky záleží stejně jako na skluznici

Nepřetržitá recirkulace, minimum mrtvých{0}}noh, správná filtrace odvětrávání nádrže a strategie dezinfekce zabraňují kolísání kvality.

5. Měření a řízení

Online: vodivost/odpor, pH, ORP (pokud je použit), průtok/tlak, teplota

Pro UPW: TOC, oxid křemičitý, rozpuštěný kyslík, počty částic (v případě potřeby)

Pokud sdílíte tyto 4 podrobnosti, zmapuji nejlepší konfiguraci pro EDI úpravnu vody pro polysilikon:

1. Zdroj surové vody + TDS, oxid křemičitý, bór (pokud je znám)
2. Požadovaný průtok produktu (m³/h)
3. Konečné použití: proces ředění/oplach vs UPW kritický vs bojler
4. Jakékoli omezení vybíjení (normální / omezené / ZLD)

a.Poskytujeme plnou technickou podporu a po instalaci zařízení.
b.Pomáháme školit obsluhu systému. K dispozici je také podrobný návod k obsluze.
c.7*24 hodin telefonická asistence na technické podpoře.
d. Dlouhodobě poskytujeme spotřební a náhradní díly- za nákladovou cenu.

Populární Tagy: edi úpravna vody pro polysilikon, Čína edi úpravna vody pro výrobce polysilikonu, dodavatele, továrna